[发明专利]一种工业化学机械研磨设备在审
申请号: | 201910899320.8 | 申请日: | 2019-09-23 |
公开(公告)号: | CN110625515A | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 黄功钢 | 申请(专利权)人: | 黄功钢 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B37/27;B24B41/04;B24B57/02;B24B55/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 422000 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种工业化学机械研磨设备,其结构包括机头、机箱、磨料喷头、驱动轴、磨头机构、护罩、转盘,转盘上设有抛光垫,机头与机箱之间采用电性连接,机箱的上端固定有护罩,护罩设置有转盘,驱动轴通过机头控制,驱动轴底端连接磨头机构,磨料喷头的一端贯穿于护罩连接至机箱上,另一端对应于抛光垫,磨料喷头在抛光垫的外侧添加,而抛光垫内侧与内滑槽、中集口共同作用,在研磨中可将磨料嵌入到抛光垫内部,沿着为碗状的内滑槽斜面下滑至中集口内,抛光过程中,旧磨料借助抛光垫与晶片之间的摩擦力,自动脱离抛光表面使得新磨料暴露出来,实现一个新旧料及时更替现象,减少抛光盘表面发生分支重组,防止表面形成厚厚的一层釉化层。 | ||
搜索关键词: | 抛光垫 护罩 机箱 磨料 磨料喷头 驱动轴 转盘 磨头机构 内滑槽 机头 机械研磨设备 抛光盘表面 表面形成 电性连接 工业化学 机头控制 抛光表面 抛光过程 上端固定 自动脱离 研磨 釉化层 底端 晶片 旧料 碗状 嵌入 更替 暴露 贯穿 | ||
【主权项】:
1.一种工业化学机械研磨设备,其结构包括机头(1)、机箱(2)、磨料喷头(3)、驱动轴(4)、磨头机构(5)、护罩(6)、转盘(7),其特征在于:/n所述转盘(7)上设有抛光垫(71),所述机头(1)与机箱(2)之间采用电性连接,所述机箱(2)的上端固定有护罩(6),所述护罩(6)设置有转盘(7),所述驱动轴(4)通过机头(1)控制,驱动轴(4)底端连接磨头机构(5),所述磨料喷头(3)的一端贯穿于护罩(6)连接至机箱(2)上,另一端对应于抛光垫(71),所述转盘(7)还包括有内滑槽(72)与中集口(73),所述内滑槽(72)与抛光垫(71)为一体化,所述抛光垫(71)与中集口(73)为一个轴心,所述抛光垫(71)位于内滑槽(72)的外圆周面设有抛光道。/n
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