[发明专利]一种基于能量调控原理制备超厚硬质薄膜的方法在审
申请号: | 201910890496.7 | 申请日: | 2019-09-20 |
公开(公告)号: | CN110777336A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 邱龙时;赵婧;潘晓龙;张于胜;田丰;黎栋栋;刘璐;王志杰 | 申请(专利权)人: | 西安稀有金属材料研究院有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/58 |
代理公司: | 61213 西安创知专利事务所 | 代理人: | 马小燕 |
地址: | 710016 陕西省西安市西安经济*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于能量调控原理制备超厚硬质薄膜的方法,该方法包括:一、将基片清洗后吹干得洁净基片;二、将弧靶和洁净基片装入多弧离子镀设备中,对真空室抽真空后加热;三、对洁净基片进行溅射清洗和活化得活化基片;四、在活化基片上镀制金属打底层;五、在镀制的金属打底层的表面沉积过渡层;六、通过能量调节工艺在过渡层上制备能量调节层,冷却后经退火在基片表面得到超厚硬质薄膜。本发明基于能量调控原理,制备由金属打底层、过渡层和能量调节层组成的超厚硬质薄膜,通过调节能量调节层生长过程中的能量输入,减少了内应力,避免了薄膜开裂和剥落,优化了膜层组织结构,得到厚度大于20μm的超厚硬质薄膜。 | ||
搜索关键词: | 能量调节 硬质薄膜 超厚 金属打底层 过渡层 制备 活化基片 能量调控 洁净 镀制 多弧离子镀设备 退火 真空室抽真空 薄膜开裂 表面沉积 基片表面 基片清洗 溅射清洗 能量输入 生长过程 组织结构 吹干 活化 膜层 剥落 加热 装入 冷却 优化 | ||
【主权项】:
1.一种基于能量调控原理制备超厚硬质薄膜的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:/n步骤一、将基片依次放入分析纯丙酮和分析纯乙醇中进行超声清洗,然后采用热风机吹干,得到洁净基片;/n步骤二、将弧靶固定在多弧离子镀设备的靶座上,将步骤一中得到的洁净基片装入多弧离子镀设备的真空室并固定在转架台的样品架上,然后关闭炉门,依次打开机械泵和分子泵对真空室进行抽真空至真空度为1.0×10
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