[发明专利]一种三维器件的套刻误差补偿方法及系统有效

专利信息
申请号: 201910861907.X 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110620057B 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 张利斌;韦亚一;陈睿;马乐 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01B11/06;G01B11/24
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种三维器件的套刻误差补偿方法,包括在测量晶圆套刻标识之间的第一套刻误差的基础上,再测量晶圆翘曲高度,并以第一套刻误差作为基准坐标,基于基准坐标和晶圆翘曲高度构造高度轮廓图;对高度轮廓图进行特征分析,获取高度曲面轮廓数据;基于套刻标识的图层信息和高度曲面轮廓数据进行计算,得到第二套刻误差;第一套刻误差减第二套刻误差,得到修正数据,基于修正数据补偿采用传统套刻测量方法测量出的套刻误差,解决了由于晶圆形变和翘曲所导致的高度差带来的套刻误差。本发明还提供了一种三维器件的套刻误差补偿系统,通过加入激光测距单元,能够准确测量晶圆翘曲高度,实现对现有套刻测量系统的修正和性能提升。
搜索关键词: 一种 三维 器件 误差 补偿 方法 系统
【主权项】:
1.一种三维器件的套刻误差补偿方法,其特征在于,包括以下步骤:/n提供一晶圆,并在所述晶圆上设计套刻标识,基于所述套刻标识对所述晶圆进行套刻测量,得到第一套刻误差;/n测量所述晶圆翘曲高度,以所述第一套刻误差作为基准坐标,基于所述基准坐标和所述晶圆翘曲高度构造高度轮廓图;/n对所述高度轮廓图进行特征分析,获取高度曲面轮廓数据;/n获取所述套刻标识的图层信息,基于所述图层信息和所述高度曲面轮廓数据进行计算,得到第二套刻误差,所述第一套刻误差减所述第二套刻误差,得到修正数据,基于所述修正数据对所述晶圆进行套刻误差补偿。/n
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