[发明专利]一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置在审
| 申请号： | 201910859313.5 | 申请日： | 2019-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN110453199A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 靳伟;崔国东;戴秀海 | 申请（专利权）人： | 光驰科技(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;B01D5/00;B01D46/00;B01D53/76 |
| 代理公司： | 31214 上海申蒙商标专利代理有限公司 | 代理人： | 周宇凡<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 200444上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置，其特征在于：所述过滤装置设置在原子层沉积真空腔体与用于抽吸所述原子层沉积真空腔体内工艺残余气体的真空干泵之间；所述过滤装置至少包括冷凝过滤装置以及反应过滤装置，所述冷凝过滤装置的入口与所述原子层沉积真空腔体相连接，出口与所述反应过滤装置的入口相连接，所述反应过滤装置的出口与所述真空干泵相连接。本发明的优点是：1)可实现过滤99%的原子层沉积残余工艺气体；2)大大的减少粉尘进入到干泵中，延长干泵的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 原子层沉积 干泵 反应过滤装置 过滤装置 冷凝过滤装置 工艺残余 真空腔体 原子层沉积设备 薄膜制备技术 工艺气体 使用寿命 真空腔 抽吸 粉尘 过滤 出口 体内 | ||
【主权项】：
1.一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置，其特征在于：所述过滤装置设置在原子层沉积真空腔体与用于抽吸所述原子层沉积真空腔体内工艺残余气体的真空干泵之间；所述过滤装置至少包括冷凝过滤装置以及反应过滤装置，所述冷凝过滤装置的入口与所述原子层沉积真空腔体相连接，出口与所述反应过滤装置的入口相连接，所述反应过滤装置的出口与所述真空干泵相连接。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
