[发明专利]N缺位高纯Ti2AlN粉体材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910833225.8 申请日: 2019-09-04
公开(公告)号: CN110407585A 公开(公告)日: 2019-11-05
发明(设计)人: 贾汶哲;马朝阳;郭锋;张鹏程;李世波;黄振莺;周洋 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/626;C04B38/00;C01B21/06
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 杨帅峰
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种N缺位非化学计量比高纯Ti2AlN MAX粉体材料及其制备方法。本发明的镁基复合材料成分如下:Ti2AlN中的N含量不在是1,而是可处于0.85和1.0区间内,如摘要图所示,a和c轴的晶格参数可以通过N含量来进行调节;其N缺位的Ti2AlN陶瓷显微结构为疏松多孔,而且Ti2AlN的晶粒大小可以调控。制备方法:(1)配料:将商用的Ti粉,Al粉and AlN粉按照Ti:Al:N=2:(1.05‑1.0):(0.85‑1.0)的比例进行配比;(2)混料;(3)压坯;(4)烧结温度升在1400℃‑1480℃,保温在10‑40mins;(5)破碎及球磨;(6)干燥并过筛。
搜索关键词: 缺位 制备 粉体材料 高纯 非化学计量比 镁基复合材料 陶瓷显微结构 晶粒 晶格参数 疏松多孔 烧结 过筛 混料 配比 球磨 商用 压坯 保温 破碎 调控
【主权项】:
1.一种N缺位非化学计量比高纯Ti2AlN MAX粉体材料及其制备方法,其特征在于:Ti2AlN中的N含量y=0.85‑1.0,制备方法采用了无压烧结。
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