[发明专利]一种改性剂、带有金属层的玻璃基底及其制备方法和应用有效
申请号: | 201910832561.0 | 申请日: | 2019-09-04 |
公开(公告)号: | CN110527990B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 张国平;黄东旭;孙蓉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C23C18/40;C03C17/36 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供了一种改性剂、带有金属层的玻璃基底及其制备方法和应用,所述改性剂的制备原料包括含巯基的硅烷、硅酸酯、无机酸、去离子水以及有机溶剂;改性剂中包含羟基以及巯基,其中部分羟基能够和玻璃基底层表面的羟基脱水形成醚键,使改性层和玻璃基底层紧密相连;另一部分羟基能够提高改性层表面的润湿性,使得表面张力降低,达到较好的润湿效果,便于电镀铜药水的形成;巯基中的硫原子能够与金属镀层中的金属原子形成很强的共价键,从而使得改性层和金属镀层具有较高的结合强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 改性 带有 金属 玻璃 基底 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种改性剂,其特征在于,所述改性剂的制备原料包括:含巯基的硅烷、硅酸酯、无机酸、去离子水以及有机溶剂。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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