[发明专利]遮蔽组件及其应用的电解装置在审
| 申请号： | 201910828247.5 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110592652A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 刘建波;朱爱明;吴志鹏 | 申请（专利权）人： | 昆山东威科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C25F7/00 | 分类号： | C25F7/00;C25F3/02;H05K3/07 |
| 代理公司： | 11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人： | 贾晓燕 |
| 地址： | 215300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于电解蚀刻技术领域，用于解决待蚀刻件表面反应不均匀的问题，技术方案要点包括：一种遮蔽组件，包括机架，以及设于所述机架上的遮蔽单元，设于阴极件的端部和待蚀刻件之间以减缓所述阴极件端部与所述待蚀刻件之间的电解液的流动，所述待蚀刻件与阳极导电连接；浮动遮蔽单元，由升降单元驱动在阴极件和待蚀刻件之间升降运动以调节其阻挡位置，所述浮动遮蔽单元至少对应设于所述待蚀刻件的端部以减缓所述阴极件与所述待蚀刻件端部之间的电解液的流动。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 阴极件 遮蔽单元 电解液 浮动 技术方案要点 阳极 表面反应 导电连接 电解蚀刻 升降单元 升降运动 遮蔽组件 阻挡位置 不均匀 流动 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种遮蔽组件，其特征在于，包括：/n机架(7)，以及设于所述机架(7)上的；/n遮蔽单元(1)，设于阴极件(61)的端部和待蚀刻件(62)之间以减缓所述阴极件(61)端部与所述待蚀刻件(62)之间的电解液的流动，所述待蚀刻件(62)与阳极(63)导电连接；/n浮动遮蔽单元(2)，由升降单元驱动在阴极件(61)和待蚀刻件(62)之间升降运动以调节其阻挡位置，所述浮动遮蔽单元(2)至少对应设于所述待蚀刻件(62)的端部以减缓所述阴极件(61)与所述待蚀刻件(62)端部之间的电解液的流动，升降单元包括固定于机架(7)上的动力源、连接动力源与浮动遮蔽单元(2)的连接件。/n
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