[发明专利]显示装置的制备方法有效
| 申请号： | 201910822070.8 | 申请日： | 2019-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN110581231B | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 严国春 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显示装置的制备方法，包括以下步骤：制备一基底；将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜；依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层；通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜，降低所述减粘膜的粘度；将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离。本发明的显示装置的制备方法，在显示装置的各功能结构层与基底之间增加一层减粘膜，通过紫外光照或超声波辐射降低减粘膜的粘度，从而降低各功能结构层与基底之间的剥离难度和风险。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/n制备一基底；/n将减粘胶涂覆于所述基底上形成一层减粘膜；/n依次在所述减粘膜上制备显示装置的各功能结构层；/n通过紫外光照射或超声波辐射所述减粘膜，降低所述减粘膜的粘度；/n将所述显示装置的各功能结构层从所述基底上剥离。/n
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