[发明专利]一种应用于光学元件薄膜原子级缺陷修复的CO2激光扫描方法在审
| 申请号： | 201910820676.8 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN110540371A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 李晓鹏;陆广华;支新涛;王大森;王克鸿;袁松梅;周琦;彭勇 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;B25B11/00 |
| 代理公司： | 32203 南京理工大学专利中心 | 代理人： | 赵毅<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及应用于光学元件薄膜原子级缺陷修复的CO2激光扫描方法，该方法采用10.6μm波长的CO2激光为修复能量来源，采用S形或平行扫描的方式，通过改变激光功率、重复频率、和光斑直径对光学玻璃沉积层进行扫描，实现对光学玻璃沉积层内空穴、E’色心、氧空位、过氧连接、非桥氧心、过氧基等缺陷的修复，最终降低光的吸收率。本发明的方法采用低功率激光能量进行修复，不对材料形成损伤，也不会对原有的材料表面形貌造成改变。本发明适用于光学玻璃沉积层点缺陷的无损修复。 | ||
| 搜索关键词： | 光学玻璃 沉积层 修复 吸收率 扫描 空穴 材料表面形貌 光学元件薄膜 低功率激光 光斑 不对材料 激光功率 能量来源 平行扫描 缺陷修复 重复频率 点缺陷 过氧基 氧空位 氧连接 原有的 原子级 波长 桥氧 色心 无损 损伤 应用 | ||
【主权项】：
1.一种应用于光学元件薄膜原子级缺陷修复的CO2激光扫描方法，其特征在于，该方法为利用临界能量密度的CO2激光对洁净的光学元件薄膜表面进行扫描，在局部热作用下修复光学元件薄膜内部及其与基材界面处原子级缺陷，提高薄膜与基材界面结合力，临界能量密度为高于缺陷结构的电子跃迁且低于表面形貌变形的能量。/n
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