[发明专利]一种珐琅锅搪瓷层和电镀层处理工艺有效
| 申请号： | 201910819134.9 | 申请日： | 2019-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN110419953B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 韩安在;沈法云;黄恩点;雷宏林;王江红;梁仁球 | 申请（专利权）人： | 武汉安在厨具有限公司 |
| 主分类号： | A47J36/04 | 分类号： | A47J36/04;A47J36/02;C23D11/00;C25D7/00 |
| 代理公司： | 湖北维思德律师事务所 42260 | 代理人： | 汪钰龙 |
| 地址： | 430108 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明一种珐琅锅及其搪瓷层和电镀层处理工艺，其包括锅体和翻边，所述锅体内外表面包裹有搪瓷层，所述翻边上表面和下表面覆盖有电镀层，翻边靠近锅体内表面处设有第一环形凸起，所述翻边靠近锅体外表面处设有第二环形凸起，所述电镀层和所述搪瓷层分布设置在第一环形凸起两侧，所述电镀层和所述搪瓷层分布设置在第二环形凸起两侧。本申请通过设置第一环形凸起和第二环形凸起确定电镀层和搪瓷层的分界线，确保分界线高度一致，界面整齐，大大提高电镀层和搪瓷层分界美观性，避免了传统的靠人工打磨的方式确定分界线高度和位置。本申请的珐琅锅搪瓷层和电镀层处理工艺适合于制造高端锅具，其对美观、耐久性具有严苛的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 珐琅 搪瓷 镀层 处理 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种珐琅锅搪瓷层和电镀层处理工艺，其特征在于，包括锅体和翻边，所述锅体内外表面包裹有搪瓷层，所述翻边上表面和下表面覆盖有电镀层，翻边靠近锅体内表面处设有第一环形凸起，所述翻边2靠近锅体外表面处设有第二环形凸起，所述电镀层和所述搪瓷层分布设置在第一环形凸起两侧，所述电镀层和所述搪瓷层分布设置在第二环形凸起8两侧，其制作步骤如下：a.对锅体1进行抛光、除油和防锈工艺；b.对锅体1的内、外表面进行施底釉处理，出炉冷却，出炉冷却，底釉量为300g/m2，经过150度的烘干后，对锅体1进行850‑890度的高温烧结，成厚度为250um的底釉涂层；c.锅体1的外表面进行施外面釉处理，经过150度的烘干后，对锅体1进行3‑5分钟的850‑890度的高温烧结，成厚度为250um的外面釉涂层；d.对翻边2边缘进行擦洗、打磨抛光，以第一环形凸起和第二环形凸起为界限，对翻边2进行电镀处理。
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