[发明专利]一种提高量子效率的CMOS图像传感器像素制作方法在审

专利信息
申请号: 201910801765.8 申请日: 2019-08-28
公开(公告)号: CN112447775A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 徐江涛;王瑞硕;夏梦真;史兴萍;李凤 申请(专利权)人: 天津大学青岛海洋技术研究院
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 266200 山东省青岛市鳌*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 一种提高量子效率的CMOS图像传感器像素制作方法,采用像素背部注入高浓度P型离子掺杂,以及通过在衬底上施加反向偏压来耗尽较厚敏感半导体区域的方法,从而消除无场区,并迅速收集光生电荷。反向偏压的大小取决于半导体基板的电阻率和厚度,并且可以远远超过系统中的任何其他电压。最终进一步提高了图像传感器的量子效率,大大提高了成像质量。
搜索关键词: 一种 提高 量子 效率 cmos 图像传感器 像素 制作方法
【主权项】:
暂无信息
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