[发明专利]一种掩膜板治具、曝光机在审
申请号: | 201910782579.4 | 申请日: | 2019-08-23 |
公开(公告)号: | CN110515279A | 公开(公告)日: | 2019-11-29 |
发明(设计)人: | 丁仁义;王维;韩宗范;李雄;冯超;许俊安 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 黄威<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种掩膜板治具、曝光机,本发明提供掩膜板治具用以容置第二掩膜板,其中所述第二掩膜板设置于所述掩膜板治具的框体内的支撑台阶上。当所述第二掩膜板收容在所述掩膜板治具内时,其结合所述掩膜板治具的外形尺寸等同于第一掩模板的外形尺寸,以此实现不同尺寸的第一掩膜板和第二掩膜板共用一个曝光机,最终提高生产效率,节约生产成本。 | ||
搜索关键词: | 掩膜板 治具 曝光机 节约生产成本 生产效率 支撑台阶 掩模板 容置 收容 体内 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜板治具,其特征在于,包括:/n框体,所述框体呈“回”字形构型设置,其内设置有第一镂空区;/n支撑台阶,所述支撑台阶沿着所述框体内侧设置,并将所述第一镂空区包围于内;/n其中所述框体的外围尺寸对应于一第一掩膜板的外围尺寸,所述框体的厚度与所述第一掩膜板的厚度一致;/n其中所述支撑台阶结合其所包围的第一镂空区用于容置一第二掩膜板,其中所述第二掩膜板设置于所述框体内的支撑台阶上,所述第二掩膜板的外围尺寸对应于所述框体的内框尺寸;/n其中所述第二掩膜板远离所述支撑台阶的表面与所述框体表面平齐,当其收容在所述框体内时,其结合所述框体后的外形尺寸等同于所述第一掩模板的外形尺寸。/n
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