[发明专利]一种掩膜版和像素结构有效
| 申请号： | 201910734140.4 | 申请日： | 2019-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN110578112B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 刘志乔 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜版和像素结构，所述掩膜版包括用于在显示面板的像素开口中制作子像素的掩膜开口；所述掩膜开口的面积大于对应的像素开口的面积；所述像素开口包括至少一条内凹的曲线边；所述掩膜开口包括至少一条掩膜边，且所述至少一条掩膜边与至少一条曲线边一一对应，每一条掩膜边的曲率小于其对应的曲线边的曲率。本申请的掩膜版的掩膜开口相对于对应的像素开口非等比例扩大，使得掩膜版的掩膜开口的不同位置的尺寸可在工艺余量内做调整，且避免了将掩膜开口的掩膜边做成内凹的曲线边，减小了掩膜版的掩膜开口的制备工艺难度，使得制备具有上述曲线边的像素结构的掩膜版可以实现量产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 像素 结构 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，包括用于在显示面板的像素开口中制作子像素的掩膜开口；所述掩膜开口的面积大于对应的像素开口的面积；所述像素开口包括至少一条内凹的曲线边；所述掩膜开口包括至少一条掩膜边，且所述至少一条掩膜边与至少一条曲线边一一对应，每一条掩膜边的曲率小于其对应的曲线边的曲率。/n
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