[发明专利]一种直写光刻机的光刻系统在审
| 申请号： | 201910714857.2 | 申请日： | 2019-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN112327578A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张柯;张雷;李伟成 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻系统，包括曝光系统、运动平台系统，所述曝光系统用于对待曝光的基板进行投影，所述运动平台系统用于根据所述曝光系统的曝光操作带动待曝光的基板移动，所述曝光系统的光源为红外光源。本发明采用红外波段的光源取代或者部分取代紫外波段的光源，大幅度提高光源的能量，缩短曝光的时间，提高曝光的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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