[发明专利]一种直写光刻机的光刻系统在审
申请号: | 201910714857.2 | 申请日: | 2019-08-05 |
公开(公告)号: | CN112327578A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
发明(设计)人: | 张柯;张雷;李伟成 | 申请(专利权)人: | 苏州源卓光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215026 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 系统 | ||
1.一种光刻系统,包括曝光系统、运动平台系统,所述曝光系统用于对待曝光的基板进行投影,所述运动平台系统用于根据所述曝光系统的曝光操作带动待曝光的基板移动,其特征在于:所述曝光系统的光源为红外光源。
2.根据权利要求1所述的光刻系统,其特征在于:所述曝光系统包括第一曝光系统和第二曝光系统,所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的光源波长不同。
3.根据权利要求2所述的光刻系统,其特征在于:所述第一曝光系统和所述第二曝光系统中,其中一曝光系统的波长范围为紫外波段,另一波光系统的波长范围为红外波段。
4.根据权利要求1-3中任一所述的光刻系统,其特征在于:所述曝光系统包括多个投影成像镜头,相邻所述投影成像系统在成像面形成的成像区域在垂直于所述扫描方向上彼此拼接或重叠,覆盖垂直于所述扫描方向全部区域。
5.根据权利要求4所述的光刻系统,其特征在于:所述投影成像系统包括分光系统。
6.根据权利要求5所述的光刻系统,其特征在于:所述分光系统至少包括两组光学元件,所述每组光学元件对应一个光路,在所述成像面上分别形成一个成像区域。
7.根据权利要求6所述的光刻系统,其特征在于:所述每组光学元件包括两个平行相对的第一反射面和第二反射面,所述第一反射面和所述第二反射面均与所述成像面具有一定夹角。
8.根据权利要求7所述的光刻系统,其特征在于:相邻的所述投影成像系统中,相邻的所述分光系统中的反射面在垂直于扫描方向上相接或者相交叠。
9.根据权利要求3、5-8的任一光刻系统,其特征在于:所述紫外波段的范围是350nm-430nm。
10.根据权利要求9所述的光刻系统,其特征在于:所述光源是波长为355nm、365nm、375nm、385nm、395nm、405nm、415nm中的任一单一波长,或者上述波长中至少两种不同波长的混合波长。
11.根据权利要求1所述的光刻系统,其特征在于:所述红外光源的波长不小于800nm。
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