[发明专利]一种去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法在审

专利信息
申请号: 201910694816.1 申请日: 2019-07-30
公开(公告)号: CN111792719A 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 曹广丽;周春爽;武继文;刘冰峰;武秀坤;王琪 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C02F1/72 分类号: C02F1/72;C02F1/32;C02F101/30
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 田鸿儒
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法,涉及污水深度处理技术领域,技术方案为:取污水,加入氧化剂,紫外线照射处理。本发明采用一种新型的高级氧化工艺,利用UV激活过一硫酸盐/过二硫酸盐产生硫酸根自由基(SO4·–)和羟基自由基(·OH),再通过具有强氧化能力的自由基以及UV对细菌的损伤来去除ARGs和ARB。该高级氧化工艺对环境友好、氧化能力强、不会产生中间污染物,且对ARB和ARGs有较好的去除效果。
搜索关键词: 一种 去除 污水 抗生素 抗性 基因 氧化 方法
【主权项】:
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