[发明专利]一种去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法在审
| 申请号： | 201910694816.1 | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN111792719A | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 曹广丽;周春爽;武继文;刘冰峰;武秀坤;王琪 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C02F1/72 | 分类号： | C02F1/72;C02F1/32;C02F101/30 |
| 代理公司： | 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 | 代理人： | 田鸿儒 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 污水 抗生素 抗性 基因 氧化 方法 | ||
1.一种去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：步骤为：取污水，加入氧化剂，紫外线照射处理。
2.根据权利要求1所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述污水为污水处理厂的二级出水。
3.根据权利要求1所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述氧化剂能被紫外线激活产生具有强氧化能力的自由基。
4.根据权利要求3所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述氧化剂过二硫酸盐(PDS)为过二硫酸钾。
5.根据权利要求3所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述氧化剂过一硫酸盐(PMS)为过一硫酸氢钾。
6.根据权利要求4所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述PDS作为氧化剂，加入量为使其在所述污水中的最终浓度为0.1～2mmol/L。
7.根据权利要求5所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述PMS作为氧化剂，加入量为使其在所述污水中的最终浓度为0.1～2mmol/L。
8.根据权利要求1所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述紫外线照射处理，使用装置为波长为254nm的紫外灯。
9.根据权利要求8所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述紫外线照射处理，UV强度为16～36uw/cm2。
10.根据权利要求9所述的去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，其特征在于：所述照射处理，处理时间为1～60min。
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