[发明专利]抗蚀膜形成基板的制造方法及其所涉及的工序管理系统在审
| 申请号： | 201910656946.6 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110794656A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 山田将弘;喜田哲也;冈岛弘明 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26;G03F7/30;G03F7/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 44334 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 | 代理人： | 薛晓伟;陈海云 |
| 地址： | 日本国大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使抗蚀膜适当地形成图案。一种抗蚀膜形成基板的制造方法具有：在基板(10MG)上涂布抗蚀膜(18、19)的涂布工序、选择性地曝光在涂布工序中涂布的抗蚀膜(18、19)的曝光工序、显影在曝光工序中选择性地曝光的抗蚀膜(18、19)的显影工序，所述显影工序基于进行涂布工序之后转移到该显影工序的转移时间调整显影所涉及的处理时间。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀膜 涂布工序 显影工序 曝光工序 基板 显影 涂布抗蚀膜 时间调整 曝光 图案 制造 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀膜形成基板的制造方法，其特征在于，具有：/n涂布工序，其在基板上涂布抗蚀膜；/n曝光工序，其选择性地曝光在所述涂布工序中被涂布的所述抗蚀膜；显影工序，其显影在所述曝光工序中选择性地曝光的所述抗蚀膜，/n所述显影工序基于转移时间调整显影所涉及的处理时间，其中所述转移时间是进行所述涂布工序之后转移到该显影工序的时间。/n
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