[发明专利]一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统在审
| 申请号： | 201910654770.0 | 申请日： | 2019-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN110223904A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 李雪冬;刘小波;胡冬冬;刘海洋;孙宏博;车东晨;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 张惠忠 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括反应腔室、位于反应腔室上的法拉第屏蔽装置和进气喷嘴；所述进气喷嘴穿过法拉第屏蔽装置向反应腔室通入工艺气体；所述进气喷嘴是导电材质，且进气喷嘴与法拉第屏蔽装置导电连接。本发明通过导电材质的进气喷嘴与法拉第屏蔽装置导电连接，进行清洗工艺时，进气喷嘴投影区域的清洗工艺反应气体也发生电离，清洗工艺反应气体在介质窗下方整个区域形成电容耦合等离子体，能够对进气喷嘴周围区域的介质窗进行清洗，实现了对介质窗内壁的全方位清洗，降低等离子体处理系统的故障率。 | ||
| 搜索关键词： | 进气喷嘴 法拉第屏蔽 等离子体处理系统 反应腔室 清洗工艺 介质窗 导电材质 导电连接 反应气体 电容耦合等离子体 全方位清洗 工艺气体 投影区域 整个区域 周围区域 故障率 电离 内壁 清洗 穿过 | ||
【主权项】：
1.一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括反应腔室、位于反应腔室上的法拉第屏蔽装置和进气喷嘴；所述进气喷嘴穿过法拉第屏蔽装置向反应腔室通入工艺气体；其特征在于：所述进气喷嘴是导电材质，且进气喷嘴与法拉第屏蔽装置导电连接。
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