[发明专利]一种用于细管内壁镀膜的低温化学气相沉积装置

摘要

本发明属于薄膜制备领域，涉及一种用于细管内壁镀膜的低温化学气相沉积装置，包括等离子体放电电极、真空绝缘密封装置、放电管、两个进气管，细管容器、细管容器固定装置、真空位移控制装置和真空室。等离子体放电电极固定在真空绝缘密封装置上，放置在放电管内，放电管与进气管相连；等离子体放电所需气体由进气管通入，需要内壁镀膜的细管容器固定在细管容器固定装置上，通过真空位移控制装置实现放电管和细管容器之间的相对运动，细管容器的内壁镀膜过程在真空室内完成。本发明通过管状等离子体放电实现细管容器内壁的低温化学气相沉积；通过放电管和容器之间的相对运动，解决了管内壁镀膜的均匀性，实现了薄膜的低温生长，最低温度可至室温。

主权项

1.一种用于细管内壁镀膜的低温化学气相沉积装置，其特征在于，所述的低温化学气相沉积装置包括等离子体放电电极(1)、真空绝缘密封装置(2)、放电管(3)、两个进气管，细管容器(6)、细管容器固定装置(7)、真空位移控制装置(8)和真空室(9)；所述的等离子体放电电极(1)固定在真空绝缘密封装置(2)上，等离子体放电电极(1)深入放电管(3)内；所述的等离子体放电电极(1)由金属材料制作；所述的真空绝缘密封装置(2)固定在真空室(9)下表面，通过真空法兰与真空室(9)连接；真空绝缘密封装置(2)由金属陶瓷封接件和绝缘材料组成，金属陶瓷封接件用于等离子体放电电极(1)和真空法兰相连，起到密封和功率传导，绝缘材料用于等离子体放电电极(1)和真空室(9)之间的绝缘；所述的放电管(3)垂直设于真空室(9)内，放电管(3)底端与等离子体放电电极(1)连接，放电管(3)顶端与细管容器(6)口对应；放电管(3)上部与进气管B5连通，下部与进气管A4连通，进气管A4、B5穿过真空室(9)侧壁与外界相通，进气管A4、B5用于薄膜沉积过程的配气；所述的放电管(3)由绝缘材料制作；所述的需要内壁镀膜的细管容器(6)固定在细管容器固定装置(7)上，其中，管容器6的容器口与放电管(3)的出口相对放置；其中，细管容器(6)的内壁镀膜过程在真空室(9)内完成；所述的细管容器固定装置(7)与真空位移控制装置(8)连接，真空位移控制装置(8)设于固定在真空室(9)上表面；通过真空位移控制装置(8)带动细管容器(6)移动，进而实现放电管(3)和细管容器(6)之间的相对运动。