[发明专利]含硅多苯基单分子树脂及其光刻胶组合物有效

专利信息
申请号: 201910569152.6 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN112142769B 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 陈金平;李嫕;张卫杰;于天君;曾毅 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C07F7/08 分类号: C07F7/08;G03F7/004;G03F7/038
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 刘元霞
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一类含硅的多苯基单分子树脂,具有如下分子结构:其中,式(I)中R0、Ra1~Ra12相同或不同,式(II)中R0、Rb1~Rb18相同或不同,均各自独立地表示氢原子、羟基、烷氧基或酸敏感性取代基,条件是每个苯环上至少有一个取代基不为氢原子,R0表示氢原子、羟基、烷氧基或酸敏感性取代基,式(I)中的Rx和Ry相同或不同,各自独立表示烷基、环烷基、苯基或取代苯基,式(II)中Rz表示烷基、环烷基、苯基或取代苯基。本发明中含硅多苯基单分子树脂在各种极性溶剂中都具有很好的溶解性,适于制成薄膜,同时,具有很高的玻璃化转变温度,能够很好的满足光刻工艺的要求。本发明还公开了包括上述含硅多苯基单分子树脂的光刻胶组合物,并制得不同厚度的用于光刻的光刻胶涂层。
搜索关键词: 含硅多 苯基 分子 树脂 及其 光刻 组合
【主权项】:
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