[发明专利]基板的纳米压印制备方法及其基板在审
| 申请号： | 201910479163.5 | 申请日： | 2019-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN110174818A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 刘凡成 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基板的纳米压印制备方法，包括：提供具有纳米压印图形的软模板；提供基板组合，所述基板组合包括所述基板；根据所述软模板对所述基板组合进行压印，使得所述基板组合包括纳米图形，所述纳米图形与所述纳米压印图形相对应，所述纳米图形包括凹槽；在所述纳米图形的顶面上形成第一硬掩膜层，所述顶面不围绕所述凹槽；根据所述第一硬掩膜层对所述基板进行刻蚀，使得所述基板包括纳米结构。通过本发明，可以显著提高底胶掩膜的深宽比、获得高深宽比和高精度的纳米结构图形基板。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 基板组合 纳米图形 纳米压印图形 纳米压印 硬掩膜层 软模板 制备 纳米结构图形 高深宽比 纳米结构 深宽比 底胶 顶面 刻蚀 压印 掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种基板的纳米压印制备方法，其特征在于，所述基板的纳米压印制备方法包括：软模板提供步骤，包括提供具有纳米压印图形的软模板；基板提供步骤，包括提供基板和位于所述基板上的压印胶层；压印步骤，包括根据所述软模板对所述压印胶层进行压印，使得所述压印胶层包括纳米图形，所述纳米图形与所述纳米压印图形相对应，所述纳米图形包括贯穿所述压印胶层的顶面的凹槽；第一硬掩膜层形成步骤，包括在所述纳米图形的顶面上形成第一硬掩膜层；以及蚀刻步骤，包括根据所述第一硬掩膜层对所述基板进行刻蚀，使得所述基板包括纳米结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910479163.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
