[发明专利]基于水平三波导耦合器的硅基模式选择开关有效
申请号: | 201910477482.2 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN110109268B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 蒋卫锋;苗金烨;李涛 | 申请(专利权)人: | 南京邮电大学 |
主分类号: | G02F1/025 | 分类号: | G02F1/025;G02B6/12;G02B6/122 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种基于水平三波导耦合器的硅基模式选择开关,包括衬底层,下包层和上覆盖层;在下包层上铺有左侧掺杂平板波导层和右侧掺杂平板波导层,左侧掺杂平板波导层上设有左侧电极和输入波导;右侧掺杂平板波导层上设有右侧电极和主干波导;采用基于ENZ‑ITO的水平MOS电容器,通过调整外加电压,调节ITO层的双载流子积聚层的浓度,达到快速相变来实现模式复用的状态转换,实现了高速开关转换,提高了光与物质互作用,为片上模式复用技术打下良好基础,进一步实现应用于模分复用网络的灵活模式路由,为实现光通信、光子系统中高性能光信号处理芯片或器件奠定了基础。 | ||
搜索关键词: | 基于 水平 波导 耦合器 模式 选择 开关 | ||
【主权项】:
1.一种基于水平三波导耦合器的硅基模式选择开关,其特征在于:包括衬底层(1),在衬底层上设有下包层(2),在下包层(2)上设有左侧第一掺杂平板波导层(13),左侧第二掺杂平板波导层(15),右侧第一掺杂平板波导层(14)以及右侧第二掺杂平板波导层(16),在所述左侧第一掺杂平板波导层(13)和左侧第二掺杂平板波导层(15)之间,设有输入波导(3),在所述右侧第一掺杂平板波导层(14)和右侧第二掺杂平板波导层(16)之间,设有主干波导(9),在所述左侧第二掺杂平板波导层(15)和右侧第二掺杂平板波导层(16)之间,设有中心电容器;所述左侧第一掺杂平板波导层(13)上设有左侧电极(11),所述右侧第一掺杂平板波导层(14)上设有右侧电极(12);所述输入波导(3)通过左侧第一掺杂平板波导层(13)与左侧电极(11)相连接,所述主干波导(9)通过右侧第一掺杂平板波导层(14)与右侧电极(12)相连接;在所述左侧电极(11)、右侧电极(12)及中心电容器上加外加电压;所述下包层(2)上覆盖有上覆盖层(10)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京邮电大学,未经南京邮电大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910477482.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种热光型相位调制结构
- 下一篇:一种集成化小型法拉第原子滤光器