[发明专利]干涉成像系统有效
| 申请号： | 201910452746.9 | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN110307781B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 韩春蕊;齐月静;王宇;叶征宇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01B9/06 | 分类号： | G01B9/06;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 刘广达 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种干涉成像系统，包括依次连接的光场离散部件、离散光场干涉部件以及图像重构部件。该光场离散部件包括至少一个线性微镜阵列，该线性微镜阵列包括多个微镜，多个微镜按照预设干涉基线设计方案两两配对构成微镜对，每个微镜对中两个微镜的间距为干涉基线长度，所述预设干涉基线设计方案，涵盖了长度为最短干涉基线长度整数倍数的全部干涉基线，因此，采用本方案中的干涉基线设计方案的干涉成像系统扩大了频域空间的覆盖面积，从而减少了频域信息的丢失，提高了重构图像的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 成像 系统 | ||
【主权项】：
1.一种干涉成像系统，其特征在于，包括：依次连接的光场离散部件、离散光场干涉部件以及图像重构部件；所述光场离散部件包括至少一个线性微镜阵列，所述线性微镜阵列包括多个微镜，所述多个微镜按照预设干涉基线设计方案两两配对构成微镜对，每个微镜对中两个微镜的间距为干涉基线长度；其中，所述预设干涉基线设计方案中包括长度为最短干涉基线长度整数倍数的全部干涉基线；所述光场离散部件，用于通过所述至少一个线性微镜阵列采集目标物体的离散光场，并通过波导将所述离散光场传输至所述离散光场干涉部件；所述离散光场干涉部件，用于将各微镜对中两个微镜采集的离散光场进行干涉，采集对应的干涉信息，并将所述干涉信息传输至所述图像重构部件；所述图像重构部件，用于根据所述干涉信息重构所述目标物体的图像。
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