[发明专利]干涉成像系统有效

专利信息
申请号: 201910452746.9 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN110307781B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 韩春蕊;齐月静;王宇;叶征宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01B9/06 分类号: G01B9/06;G01B9/02
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 刘广达
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 干涉 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种干涉成像系统,其特征在于,包括:依次连接的光场离散部件、离散光场干涉部件以及图像重构部件;

所述光场离散部件包括至少一个线性微镜阵列,所述线性微镜阵列包括多个微镜,所述多个微镜按照预设干涉基线设计方案两两配对构成微镜对,每个微镜对中两个微镜的间距为干涉基线长度;其中,所述预设干涉基线设计方案中包括长度为最短干涉基线长度整数倍数的全部干涉基线;

所述光场离散部件,用于通过所述至少一个线性微镜阵列采集目标物体的离散光场,并通过波导将所述离散光场传输至所述离散光场干涉部件;

所述离散光场干涉部件,用于将各微镜对中两个微镜采集的离散光场进行干涉,采集对应的干涉信息,并将所述干涉信息传输至所述图像重构部件;

所述图像重构部件,用于根据所述干涉信息重构所述目标物体的图像;

所述光场离散部件包括一个线性微镜阵列;

所述预设干涉基线设计方案包括:将所述线性微镜阵列之后的每个波导的离散光场分为两组,以使所述离散光场分别与其它两个不同位置波导中的离散光场进行干涉;其中,一组干涉基线的长度为最短基线的奇数倍,另一组干涉基线的长度为最短基线的偶数倍。

2.根据权利要求1所述的干涉成像系统,其特征在于,所述图像重构部件,具体用于将所述干涉信息转换为电信号,并根据所述电信号,通过反傅里叶变换重构所述目标物体的图像。

3.根据权利要求1-2任一项所述的干涉成像系统,其特征在于,所述干涉信息包括干涉相位和干涉强度。

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