[发明专利]免步进X射线光栅相衬成像方法有效
申请号: | 201910449219.2 | 申请日: | 2019-05-28 |
公开(公告)号: | CN110133011B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 杜强;袁刚;胡涛;孙明山;杨晓冬 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
主分类号: | G01N23/041 | 分类号: | G01N23/041 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 韩飞 |
地址: | 215163 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种免步进X射线光栅相衬成像方法,包括以下步骤:1)布置成像系统;2)改变所述分析光栅的角度或者改变所述相位光栅自成像条纹的周期,使探测器平面接收到莫尔条纹;3)调整成像系统结构参数获得背景位移曲线;4)在所述物点处放置样品,采集此时探测器接收到的条纹信息,获得物体位移曲线;5)根据获得的背景位移曲线和物体位移曲线,处理得到样品的吸收、折射和散射信息。与传统X射线光栅相衬成像方法采用相位步进相比,本发明由于免除了相位步进流程,大大提高了相衬成像的速度,降低了对机械部件的精度要求,同时,没有额外增加成本、物体不用移动扫描、对莫尔条纹的一致性要求也不高,是光栅相衬成像方法的有效补充。 | ||
搜索关键词: | 步进 射线 光栅 成像 方法 | ||
【主权项】:
1.一种免步进X射线光栅相衬成像方法,其特征在于,包括以下步骤:1)布置成像系统,所述成像系统包括沿光路依次设置的X射线光源、物点、分析光栅、相位光栅及探测器;2)改变所述分析光栅的角度或者改变所述相位光栅自成像条纹的周期,使探测器平面接收到莫尔条纹;3)调整成像系统结构参数,使系统的极限分辨率大小的像素在探测器平面成像为1个条纹周期,采集探测器接收到的条纹信息,获得背景位移曲线;4)在所述物点处放置样品,采集此时探测器接收到的条纹信息,获得物体位移曲线;5)根据获得的背景位移曲线和物体位移曲线,利用相位信息分离算法,处理得到样品的吸收、折射和散射信息,实现相衬成像。
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