[发明专利]折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜在审
| 申请号： | 201910419245.0 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN110129745A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 李军旗;曾一鑫 | 申请（专利权）人： | 信利光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 许青华;廖苑滨 |
| 地址： | 516600 广东省汕*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。传统的介质膜的折射率固定不变，本发明中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。 | ||
| 搜索关键词： | 介质膜 氮气 颜色膜 氧气 折射率 镀膜 基板 折射率变化 真空镀膜法 反应气体 可变的 靶材 硅靶 沉积 制备 镀膜成本 镀膜工艺 配置要求 设备投入 需求实现 传统的 对设备 多变性 | ||
【主权项】：
1.折射率可变的介质膜的镀膜方法，其特征在于，其包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司，未经信利光电股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910419245.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：溅射用钛靶
- 下一篇：用于金属零件表面的热化学处理的等离子处理和反应器
- 同类专利
- 专利分类
