[发明专利]折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜

说明书

本发明公开了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜，包括如下步骤：提供待镀膜的基板；采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。传统的介质膜的折射率固定不变，本发明中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，特别是涉及了折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜。

背景技术

随着人们生活水平的提高，手机等电子产品已经成为人们必不可少的日常用品，近些年，消费者不仅对手机性能的要求越来越高，同时对其舒适度及外观的要求也在不断提高，有愈来愈多的使用者希望自己所使用的产品是一个特殊且与众不同的产品，可见，这些使用者对于现阶段电子产品的外观的不满以及对于电子产品外观的创新与改变肯定也有很多的期待。面对消费者越来越高的要求，当很多厂家在不断寻求技术创新和功能创新来迎合环境、节能和差化的发展趋势的同时，为了博得大众的眼球、获得消费者的青睐，不断的就产品的外观进行改进。

为了满足对电子产品外观的颜色多样性的要求，炫彩的颜色膜在产品外观设计上得到了越来越广泛的应用。现有的颜色膜通常是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，其中所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，第一介质膜通常采用氮化硅膜，第二介质膜通常采用氧化硅膜，由于第一介质膜和第二介质膜的折射率是固定不变的，颜色膜的颜色变化不够丰富。

发明内容

为了弥补已有技术的缺陷，本发明提供折射率可变的介质膜的镀膜方法及含有该介质膜的颜色膜。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

折射率可变的介质膜的镀膜方法，包括如下步骤：

提供待镀膜的基板；

采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化。

进一步地，所述介质膜的折射率在1.46-2.0之间变化。

一种颜色膜，是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，其中，所述第一介质膜和第二介质膜均采用上述镀膜方法制备得到。

本发明具有如下有益效果：

传统的介质膜的折射率固定不变，本发明中，采用真空镀膜法，以硅靶作为靶材，以氮气和氧气作为反应气体，在所述基板上沉积介质膜，通过调节氮气和氧气的流量比例来控制介质膜的折射率变化，可以据需求实现多种颜色膜的制备，呈现丰富多彩的不同颜色，使颜色膜的制备更具灵活性和多变性，镀膜工艺稳定、简单，对设备配置要求较低，从而减少了设备投入，节省了镀膜成本。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明进行详细的说明，实施例仅是本发明的优选实施方式，不是对本发明的限定。

现有的颜色膜通常是由第一介质膜和第二介质膜交替排列的堆叠膜层，其中所述第一介质膜的折射率高于所述第二介质膜的折射率，第一介质膜通常采用氮化硅膜，第二介质膜通常采用氧化硅膜，颜色膜的颜色主要源自于介质膜，由于第一介质膜和第二介质膜的折射率是固定不变的，只能通过调整介质膜的材质、膜厚和层数从而获得多种颜色膜，颜色膜的制备过程灵活性和多变性不足，无法满足消费者的需求。

基于此，本发明提供一种折射率可变的介质膜的镀膜方法，包括如下步骤：