[发明专利]掩膜板、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜板中蒸镀开口的设计方法有效
| 申请号： | 201910399344.7 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110066975B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 杨晓宇;罗昶;段芳芳;嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张静尧 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板、蒸镀装置、蒸镀方法以及掩膜板中蒸镀开口的设计方法，涉及显示技术领域，可以提高蒸镀过程中待蒸镀基板与掩膜板之间的对位准确性。掩膜板上设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；第一检测用开口的尺寸小于蒸镀开口的尺寸；第一检测用开口靠近至少一个蒸镀开口设置。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 装置 方法 以及 掩膜板中蒸镀 开口 设计 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版设置有多个蒸镀开口、以及至少一个第一检测用开口；所述第一检测用开口的尺寸小于所述蒸镀开口的尺寸；所述第一检测用开口靠近至少一个所述蒸镀开口设置。
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