[发明专利]彩膜基板的制备方法及彩膜基板在审
| 申请号： | 201910398414.7 | 申请日： | 2019-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN110231730A | 公开（公告）日： | 2019-09-13 |
| 发明（设计）人： | 李飞 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种彩膜基板的制备方法及彩膜基板，该彩膜基板的制备方法包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成图案化的光阻层，所述光阻层包括第一槽体和第二槽体；所述第一槽体和所述第二槽体均裸露出所述衬底基板；对所述衬底基板进行粗糙化处理，使所述第一槽体和所述第二槽体的底面粗糙化；在所述衬底基板上形成黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述第一粗糙面和所述第二粗糙面内；去除所述光阻层。本申请通过在衬底基板上设置黑色矩阵层的区域进行表面的粗糙化处理，增加黑色矩阵层和衬底基板之间界面的粗糙度，进而降低了界面的反射率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底基板 黑色矩阵层 彩膜基板 第二槽 第一槽 光阻层 制备 粗糙化处理 粗糙面 粗糙度 粗糙化 反射率 图案化 彩膜 底面 去除 申请 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成图案化的光阻层，所述光阻层包括第一槽体、第二槽体和光阻结构，所述第一槽体和所述第二槽体均裸露出所述衬底基板，所述第一槽体沿着第一方向间隔排列设置，所述第二槽体沿着第二方向间隔排列设置，所述第一槽体和所述第二槽体相互交叉形成多个光阻区域，所述光阻结构设置在所述光阻区域内；对所述衬底基板进行粗糙化处理，使所述第一槽体和所述第二槽体的底面粗糙化，分别得到第一粗糙面和第二粗糙面；在所述衬底基板上形成黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在所述第一粗糙面和所述第二粗糙面内；去除所述光阻层。
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