[发明专利]能够得到90nm以下Trench及Hole图形的ArF光刻胶及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 201910388230.2 | 申请日： | 2019-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110283274B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 邓云祥;袁自强;袁敏民 | 申请（专利权）人： | 珠海雅天科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/22 | 分类号： | C08F220/22;C08F232/08;C08F220/18;G03F7/004 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 俞梁清 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新区环*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能够得到90nm以下Trench及Hole图形的光刻胶及其制备方法与应用，所述化合物包含下述结构单元中的至少两种：(a1)：具有通过水解而产生酸性基团的结构单元；(a2)：能形成刚性主链的结构单元；(a3)：具有环状基团的结构单元；若含，则所述结构单元(a2)的摩尔占比为1～80％；若含，则所述结构单元(a3)的摩尔占比为20～99％。与现有技术相比，本发明方案的化合物能够用于获得尺寸在200nm以下的高分辨率Trench及hole图形，最高分辨率为46nm直径Hole，Iso space的分辨率可达到120nm、DOF 200nm。 | ||
| 搜索关键词： | 能够 得到 90 nm 以下 trench hole 图形 arf 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种能够得到90nm以下Trench及Hole图形的ArF感光树脂，其特征在于：所述树脂包含下述结构单元中的至少两种：(a1)：具有通过水解而产生酸性基团的结构单元；(a2)：能形成刚性主链的结构单元；(a3)：具有环状基团的结构单元；若含，则所述结构单元(a2)的摩尔占比为1～80％；若含，则所述结构单元(a3)的摩尔占比为20～99％。
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