[发明专利]一种电弧离子镀膜的方法在审
| 申请号： | 201910385100.3 | 申请日： | 2019-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN110195212A | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 胡征宇;蒋义锋 | 申请（专利权）人： | 厦门建霖健康家居股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/14 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郭锦辉;陈艺琴 |
| 地址： | 361000 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电弧离子镀膜的方法，包括如下步骤：(1)等离子清洗，所述等离子清洗的清洗方式为以下两种中任选一种：(a)真空室通入氩气调整真空度至2～10Pa，工件转架加载负偏压300～1000V，利用高压辉光等离子对产品表面进行清洗；(b)真空室通入氩气或/和氧气调整真空度至0.2～2Pa，工件转架加载负偏压200～800V，离子源输出电压500～1500V，利用离子源产生等离子对产品表面进行清洗；(2)非反应层沉积：使用掺杂稀土元素的合金靶材作为阴极离化源，真空室通入氩气调整真空度至0.2～0.6Pa，电弧输出电流为60～250A，工件偏压100～450V；(3)反应层沉积：使用掺杂稀土元素的合金靶材作为阴极离化源，真空室通入氩气及反应气体调整真空度至0.2～0.6Pa，电弧输出电流60～250A，工件偏压30～250V。 | ||
| 搜索关键词： | 氩气 真空室 电弧 阴极 掺杂稀土元素 电弧离子镀膜 清洗 等离子清洗 产品表面 工件偏压 工件转架 合金靶材 输出电流 等离子 反应层 离化源 离子源 沉积 反应气体 输出电压 辉光 氧气 | ||
【主权项】：
1.一种电弧离子镀膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)等离子清洗，所述等离子清洗的清洗方式为以下两种中任选一种：(a)真空室通入氩气调整真空度至2～10Pa，工件转架加载负偏压300～1000V，利用高压辉光等离子对产品表面进行清洗；(b)真空室通入氩气或/和氧气调整真空度至0.2～2Pa，工件转架加载负偏压200～800V，离子源输出电压500～1500V，利用离子源产生等离子对产品表面进行清洗；(2)非反应层沉积：使用掺杂稀土元素的合金靶材作为阴极离化源，真空室通入氩气调整真空度至0.2～0.6Pa，电弧输出电流为60～250A，工件偏压100～450V；(3)反应层沉积：使用掺杂稀土元素的合金靶材作为阴极离化源，真空室通入氩气及反应气体调整真空度至0.2～0.6Pa，电弧输出电流60～250A，工件偏压30～250V。
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