[发明专利]掩模条材料属性的获取方法、装置和掩模板的制作方法有效
| 申请号： | 201910372790.9 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN110257767B | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 邓江涛;杨晓宇;嵇凤丽;徐鹏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/00 | 分类号： | G06F30/00;G06F17/10;G06F17/16;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种掩模条材料属性的获取方法、装置和掩模板的制作方法，涉及显示技术领域，可以快速而简便的获取掩模条的材料属性。一种掩模条材料属性的获取方法，包括：根据掩模条模型，制作一模拟图形，模拟图形与掩模条模型上的重复单元的形状、尺寸均相同；其中，重复单元包括至少一个蒸镀孔；根据模拟图形，构建等效图形，等效图形的形状为长方体；长方体的长、宽和高与模拟图形的长、宽和高分别相等；设定多组测试参数，每组测试参数均包括模拟图形的所有表面的位移约束值；根据每组测试参数，提取模拟图形表面上的反力；根据模拟图形表面上的反力以及对应的等效图形表面的面积，计算得到模拟图形的材料属性。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模条 材料 属性 获取 方法 装置 模板 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩模条材料属性的获取方法，其特征在于，包括：根据掩模条模型，制作一模拟图形，所述模拟图形与所述掩模条模型上的重复单元的形状、尺寸均相同；其中，所述重复单元包括至少一个蒸镀孔；根据所述模拟图形，构建等效图形，所述等效图形的形状为长方体；所述长方体的长、宽和高与所述模拟图形的长、宽和高分别相等；设定多组测试参数，每组所述测试参数均包括所述模拟图形的所有表面的位移约束值；根据每组所述测试参数，提取所述模拟图形表面上的反力；根据所述模拟图形表面上的反力以及对应的所述等效图形表面的面积，计算得到所述模拟图形的材料属性；所述材料属性包括杨氏模量、泊松比和剪切模量。
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