[发明专利]用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备及方法有效
申请号: | 201910372078.9 | 申请日: | 2019-05-06 |
公开(公告)号: | CN110030948B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 韩森;李雪园;庄锦程;张凌华;刘薇 | 申请(专利权)人: | 苏州慧利仪器有限责任公司 |
主分类号: | G01B11/24 | 分类号: | G01B11/24 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉;刘国华 |
地址: | 215164 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备以及测量方法,采用三平面互检的方式对三个平晶的工作面的绝对面形进行测量,包括:设备主体,包含激光发射器、滤波器、分光镜、准直透镜、成像物镜、图像探测器以及处理部;参考平晶承载装置,位于准直透镜的正下方并且与该准直透镜同光轴设置,用于承载作为参考平晶的平晶;以及平晶旋转承载装置,位于参考平晶承载装置的正下方并且与该参考平晶承载装置同光轴设置,用于承载作为待测平晶的平晶,其中,平晶旋转承载装置具有固定盘、旋转承载部以及限定部,限定部用于在旋转盘切换至第一位置时将旋转盘限定在第一位置以及在旋转盘切换至第二位置时将旋转盘限定在第二位置。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 绝对 立式 激光 干涉 设备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于测量平晶绝对面形的立式激光干涉测量设备,采用三平面互检的方式对三个平晶的工作面的绝对面形进行测量,其特征在于,包括:设备主体,包含激光发射器、滤波器、分光镜、准直透镜、成像物镜、图像探测器以及处理部;参考平晶承载装置,位于所述准直透镜的正下方并且与该准直透镜同光轴设置,用于承载作为参考平晶的所述平晶;以及平晶旋转承载装置,位于所述参考平晶承载装置的正下方并且与该参考平晶承载装置同光轴设置,用于承载作为待测平晶的所述平晶,其中,所述激光发射器用于发射出激光束,所述滤波器接收所述激光束并对该激光束进行滤波,所述准直透镜接收滤波后的所述激光束并形成准直光束发射到所述参考平晶以及所述待测平晶,所述分光镜用于将滤波后的所述激光束透射到所述准直透镜,并将所述参考平晶的工作面反射形成的参考光束以及所述待测平晶的工作面反射形成的测试光束进行反射,所述成像物镜接收所述参考光束以及所述测试光束并形成干涉条纹进行发射,所述图像探测器接收所述干涉条纹并形成干涉图像,所述处理部与所述图像探测器通信连接,接收所述干涉图像并对该干涉图像进行处理得到所述三个平晶的工作面的绝对面形信息,所述平晶旋转承载装置具有固定盘、旋转承载部以及限定部,所述固定盘用于固定安装;所述旋转承载部包含可转动地设置在所述固定盘上并且能够在第一位置和第二位置之间进行切换的旋转盘以及设置在该旋转盘上用于放置所述待测平晶的待测平晶承载盘,所述限定部用于在所述旋转盘切换至所述第一位置时将所述旋转盘限定在所述第一位置以及在所述旋转盘切换至所述第二位置时将所述旋转盘限定在所述第二位置,包含设置在所述旋转盘的侧表面的一个限位件以及分别位于该限位件的两侧并且沿所述固定盘的圆周方向间隔设置在该固定盘的侧表面的两个阻挡件,所述阻挡件的边缘与所述限位件相接触,用于阻挡所述旋转盘的转动,所述第一位置作为第一限定状态位置,是所述限位件与一个所述阻挡件的边缘相接触时所述限位件所处的位置,所述第二位置作为第二限定状态位置,是所述限位件与另一个所述阻挡件的边缘相接触时所述限位件所处的位置,所述限位件的中心与所述旋转盘的圆心连线分别在所述第一限位状态位置和所述第二限位状态位置时所成的夹角为90°。
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