[发明专利]一种铸锭坩埚贴膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910354304.0 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN109913929B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 袁宁一;权祥;丁建宁 申请(专利权)人: 常州大学;江苏大学
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02;C25D13/12;C23C16/513;C30B11/00;C30B29/06
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 代理人: 谢新萍
地址: 213164 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于晶体硅太阳能电池硅片制备技术领域,具体涉及一种新型铸锭坩埚贴膜及其制备方法,是在现有铸锭坩埚内壁表面粘贴薄膜取代现有坩埚内表面喷涂工艺。坩埚内壁薄膜类型可根据铸锭需要进行多种选择,坩埚侧壁可粘贴和硅晶格常数相比失配度大于50%的物质的薄膜,底部可粘贴和硅晶格失配度小于10%的物质的薄膜。薄膜最下面一层为含有硅胶成分的粘合剂,中间层为高纯的纤维织物,最上面一层可以是氮化硅、氧化锆、硅的氧化物等。薄膜的最上面一层物质可通过电泳、PEVCD等方法沉积在纤维织物表面,具有晶向一致性特性。新型铸锭坩埚薄膜通过精细化制备,可减少硅晶体缺陷,提高硅晶体整体品质,从而增加硅锭整体的经济效益。
搜索关键词: 一种 铸锭 坩埚 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种新型铸锭坩埚贴膜,其特征在于,所述坩埚贴膜由上层(4)物质、中间层(5)和底层(6)组成;坩埚贴膜分为侧壁薄膜和/或底部薄膜;在现有铸锭坩埚(1)侧壁粘贴抑制形核的侧部薄膜(2);在现有铸锭坩埚(1)底部粘贴诱导形核的底部薄膜(3)。
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