[发明专利]基片载置装置和基片载置方法

摘要

本发明提供一种在载置台载置基片时，以水平的姿态载置基片的技术。载置台在表面形成有各自支承基片的多个突起，在该载置台载置基片时，由吸引孔对与载置与上述载置台的基片的、位于上述突起的上方的区域不同的区域进行了吸引的状态下，将基片吸附在载置台，之后减小吸引孔的吸引。因此，能够在消除了基片的翘曲的状态下将基片载置在载置台，并且能够抑制因较强地吸引晶片W的下表面而产生的基片的形变，能够将基片以水平的姿态载置在载置台。

主权项

1.一种基片载置装置，其特征在于，包括：能够载置基片的载置台；多个突起，其设置在所述载置台的表面，各自支承所述基片；吸引孔，其在所述载置台的表面的与所述突起不同的位置开口，用于吸引载置于所述载置台的基片的下表面；和控制部，其输出控制信号来执行：第一步骤，其由所述吸引孔吸引载置于所述载置台的所述基片，以将所述基片吸附在所述载置台；和第二步骤，其接着第一步骤，使作用在基片的吸引力小于在所述第一步骤中作用在基片的吸引力，以将所述基片吸附在所述载置台。