[发明专利]主链含咪唑盐基团的阴离子交换膜的制备方法

摘要

本发明属于新材料及膜技术领域，提供了主链含咪唑盐基团的阴离子交换膜的制备方法。该制备方法包含以下步骤：(1)对双咪唑原料以及双溴原料进行亲核反应生成骨架上带有咪唑官能团的聚合物；(2)将合成的聚合物，聚苯并咪唑(PBI)分别溶解在极性有机溶剂中，超声得到均一溶液；(3)采用溶液浇铸法制备复合膜材料；(4)将上述复合膜完全浸泡在1mol/L KOH溶液中水解；(5)将复合膜浸泡在去离子水中清洗，得到阴离子型聚合物电解质膜。本发明中通过调控三种不同聚合物以及PBI在膜中的含量，实现不同咪唑含量的控制，增强了膜的柔韧性和机械性能，制备的复合膜在30～80℃下具有良好的导电能力。

主权项

1.主链含咪唑盐基团的阴离子交换膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)对双咪唑原料以及双溴原料进行亲核反应生成骨架上带有咪唑官能团的聚合物；(2)加热条件下，将聚合物溶解在二甲基亚砜中，磁力搅拌溶解，得到无色混合溶液，其中聚合物的质量分数为1～3％；(3)向步骤(2)的混合溶液中加入聚苯并咪唑的二甲基亚砜溶液，超声得到透明均一的铸膜溶液；(4)采用溶液浇铸法制备复合膜材料，其中成膜过程为80℃下挥发溶剂，成膜时间为36～48小时；(5)将上述复合膜完全浸泡在1M KOH溶液中，浸泡时间为48小时；(6)将泡完碱的复合膜材料于室温下用去离子水冲洗掉表面多余的碱，得到聚合物电解质膜。