[发明专利]阵列基板在审
| 申请号： | 201910266879.7 | 申请日： | 2019-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN109932848A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 常书铭 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板，包括第一导电层，图案化形成有第一信号线；第二导电层，图案化形成有第二信号线；在所述阵列基板的预切割区内，所述第一信号线和所述第二信号线在参考平面内的投影不交叉，所述参考面与所述第一导电层或第二导电层平行；即错开了预切割区和所述第一信号线与所述第二信号线的交叉区，解决了因切割/磨边产生的不同层线路短路问题，进而避免了因偏光板烧伤而造成的产品报废问题。 | ||
| 搜索关键词： | 第二信号 第二导电层 第一导电层 阵列基板 图案化 预切割 参考平面 产品报废 线路短路 不交叉 参考面 交叉区 偏光板 错开 磨边 投影 切割 平行 烧伤 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：第一导电层，图案化形成有第一信号线；第二导电层，图案化形成有第二信号线；在所述阵列基板的预切割区内，所述第一信号线和所述第二信号线在参考平面内的投影不交叉，所述参考面与所述第一导电层或第二导电层平行。
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