[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示装置

摘要

本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，通过使信号走线在垂直于信号走线沿延伸方向上的截面的第一区域的厚度大于第二区域的厚度，在形成栅绝缘层和第一光刻胶层后，由于第一光刻胶层的材料具有流动性，使得对应第一区域的第一光刻胶层的厚度可以小于其余区域的厚度。这样通过灰化工艺对第一光刻胶层进行处理，将对应第一区域的第一光刻胶层进行去除，而仅是将其余区域的第一光刻胶层进行减薄，以直接将对应第一区域的栅绝缘层暴露出来，从而通过刻蚀工艺形成过孔。这样可以不用使用掩膜版，即可将对应信号走线的第一区域上方的第一光刻胶层去除以使栅绝缘层形成过孔，从而节省掩膜版，降低工艺制备成本。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成信号走线的图形；其中，在垂直于所述信号走线沿延伸方向上，所述信号走线的截面具有第一区域和第二区域，且在垂直于所述衬底基板上，所述第一区域的厚度大于所述第二区域的厚度；在形成有所述信号走线的衬底基板上形成栅绝缘层；在形成有所述栅绝缘层的衬底基板上形成第一光刻胶层；其中，对应所述第一区域的第一光刻胶层的厚度小于其余区域的第一光刻胶层的厚度；采用灰化工艺，去除对应所述第一区域的第一光刻胶层，并减薄其余区域的第一光刻胶层；采用第一刻蚀工艺，形成贯穿对应所述第一区域的栅绝缘层的过孔；剥离剩余的所述第一光刻胶层；在形成有所述过孔的栅绝缘层的衬底基板上形成连接走线的图形，使所述连接走线通过所述过孔与所述信号走线电连接。