[发明专利]用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910249644.7 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN110013218B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 李晓平;夏金松;史铁林;张虹;李贵刚;汤自荣;赵英俊 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: A61B3/16 分类号: A61B3/16
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 尚威;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的制造方法,属于动态眼压测量领域,包括:在硅衬底上旋涂光刻胶,显影、定影得到由剩余光刻胶形成的微纳米尺寸图纹;以剩余光刻胶做掩膜,利用干法刻蚀硅衬底,得到纳米尺寸图纹;除去剩余光刻胶,得到硅凹模,将其图纹复制到树脂片;在所述树脂片上喷银,然后进行微电铸,将树脂片上的图纹复制在镍片上,得到镍凹模;将制造隐形眼镜的液态原料或固态毛坯注入镍凹模进行铸压,得到用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器。本发明提供了用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的产业化制造方法,从而为临床应用与研究提供了产业化基础。
搜索关键词: 用于 动态 眼压 测量 光学 光栅 柔性 传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器的制造方法,其特征在于,包括如下制造步骤:(1)光刻步骤:首先在硅衬底上旋涂厚度为30nm~15μm的光刻胶,再对光刻胶进行光刻曝光,显影、定影后在硅衬底上得到由剩余光刻胶形成的线宽为30nm~15μm的微纳米尺寸图纹;(2)干法刻蚀步骤:以剩余光刻胶做掩膜,利用干法刻蚀硅衬底,在其上得到深度为30nm~15μm,线宽为30nm~15μm的微纳米尺寸图纹;(3)压印步骤:清洗除去硅衬底上剩余光刻胶,得到具有微纳米尺寸图纹的硅凹模,以其作为模板,利用压印将所述硅凹模的图纹复制到树脂片;(4)微电铸步骤:在所述树脂片上喷银,然后进行微电铸,将树脂片上的图纹复制在镍片上,得到多个厚度为0.04mm~0.15mm的镍凹模,所述镍凹模上具有深度为30nm~15μm、线宽为30nm~15μm的微纳米尺寸图纹;(5)模压成型步骤:将制造隐形眼镜的液态原料或固态毛坯注入镍凹模进行铸压,批量得到具有深度为30nm~15μm、线宽为30nm~15μm的用于动态眼压测量的光学光栅柔性传感器。
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