[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，能够使多个加热器与多个线圈之间的配线长度短。在一个实施方式的等离子体处理装置中，高频电源经由供电体而与支承台的下部电极连接。供电体在腔室的外侧被导体管包围。在支承台的静电卡盘内置多个加热器。在多个加热器与加热器控制器之间设置有滤波装置。滤波装置具有多个线圈组，所述多个线圈组分别包括两个以上的线圈。在各线圈组中，两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线以螺旋状延伸，并且各个单匝线圈按顺序重复排列。多个线圈组在腔室的正下方以包围导体管的方式同轴地设置。

主权项

1.一种等离子体处理装置，具备：腔室；支承台，其构成为在所述腔室的内部空间之中支承基板，该支承台具有：下部电极；以及静电卡盘，其设置在所述下部电极上，并且具有设置在内部的多个加热器；供电体，其与所述下部电极电连接，并且在所述下部电极的下侧向下方延伸；接地的导体管，其在所述腔室的外侧以包围所述供电体的方式延伸；高频电源，其与所述供电体电连接；滤波装置，其构成为防止高频从所述多个加热器流入加热器控制器；以及多个配线，所述多个配线将所述多个加热器与所述滤波装置的多个线圈分别电连接，其中，所述滤波装置具有：所述多个线圈，所述多个线圈与所述多个加热器电连接；多个电容器，所述多个电容器分别连接在所述多个线圈与地之间；以及壳体，其电接地，并且在所述壳体中收容有所述多个线圈，所述多个线圈构成多个线圈组，所述多个线圈组分别包括两个以上的线圈，在所述多个线圈组的各线圈组中，所述两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线以螺旋状延伸，并且各个单匝线圈在该中心轴线延伸的轴线方向上按顺序重复排列，所述多个线圈组在所述腔室的正下方以包围所述导体管的方式相对于所述中心轴线同轴地设置。