[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，具备：

腔室；

支承台，其构成为在所述腔室的内部空间之中支承基板，该支承台具有：

下部电极；以及

静电卡盘，其设置在所述下部电极上，并且具有设置在内部的多个加热器；

供电体，其与所述下部电极电连接，并且在所述下部电极的下侧向下方延伸；

接地的导体管，其在所述腔室的外侧以包围所述供电体的方式延伸；

高频电源，其与所述供电体电连接；

滤波装置，其构成为防止高频从所述多个加热器流入加热器控制器；以及

多个配线，所述多个配线将所述多个加热器与所述滤波装置的多个线圈分别电连接，

其中，所述滤波装置具有：

所述多个线圈，所述多个线圈与所述多个加热器电连接；

多个电容器，所述多个电容器分别连接在所述多个线圈与地之间；以及

壳体，其电接地，并且在所述壳体中收容有所述多个线圈，

所述多个线圈构成多个线圈组，所述多个线圈组分别包括两个以上的线圈，

在所述多个线圈组的各线圈组中，所述两个以上的线圈设置为：各个线圈的卷绕部绕中心轴线以螺旋状延伸，并且各个单匝线圈在该中心轴线延伸的轴线方向上按顺序重复排列，

所述多个线圈组在所述腔室的正下方以包围所述导体管的方式相对于所述中心轴线同轴地设置。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述多个配线具有实质上彼此相同的长度。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述静电卡盘的周缘部设置有与所述多个加热器电连接的多个端子，

所述等离子体处理装置还具备：

电路板，其与所述多个线圈各自的多个引出线连接；

多个第一电连接器，所述多个第一电连接器从所述电路板向上方延伸；

多个第二电连接器，所述多个第二电连接器与所述多个第一电连接器分别结合；以及

多个挠性电路板，所述多个挠性电路板从所述多个第二电连接器延伸至所述静电卡盘的所述周缘部的下侧，

其中，所述多个配线分别在所述电路板、所述多个第一电连接器中的对应的第一电连接器、所述多个第二电连接器中的对应的第二电连接器、以及所述多个挠性电路板中的对应的挠性电路板之中延伸。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还具备多个其它电路板，所述多个其它电路板设置在所述多个线圈的下方，

所述多个电容器的各电容器分别搭载在所述多个其它电路板中的对应的电路板上。

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述多个线圈的各线圈分别具有与卷绕部的一端连接且与所述多个配线中的对应的配线连接的引出线，

在所述多个线圈组的各线圈组中，在距所述两个以上的线圈各自的所述引出线的距离为18mm以下的位置设置有所述两个以上的线圈中的其它的线圈的引出线。