[发明专利]全光透镜在光传感器衬底上的单片集成在审
| 申请号: | 201910229720.8 | 申请日: | 2013-12-07 |
| 公开(公告)号: | CN110061018A | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
| 发明(设计)人: | 豪尔赫·比森持·布拉斯科克拉雷特 | 申请(专利权)人: | 弗托斯传感与算法公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/0232;H04N5/225;H04N9/04;G02B13/00 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宋岩 |
| 地址: | 西班牙*** | 国省代码: | 西班牙;ES |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明涉及全光结构在图像传感器上的单片集成,其中在光传感器的衬底上利用具有低折射率的材料(包括或者不包括滤色镜和/或像素微透镜)并且在具有低折射率的所述材料上布置具有高折射率的材料来制造全光微透镜。直接在光传感器的衬底上制造全光微透镜。高集成密度的光传感器被以最小距离布置以最小化像素间干扰,为了高密度集成的目标,在邻近具有相同颜色的像素的光传感器的顶点上具有“变形的方向”的几何形状,从所述顶点移除任何光敏区域,以使光传感器远离具有相同颜色的邻近像素的噪声(具有相同颜色的邻近像素的辐照圆或者艾里盘)。通过距衬底不同距离处的全光微透镜的结构(在其周边上更小)和/或在其周边上的更不对称的轮廓和/或朝向传感器的周边的具有不同尺寸和形状的像素,来提高光效率。通过产生低折射率和高折射率的交替层来制造微物镜。 | ||
| 搜索关键词: | 光传感器 微透镜 衬底 全光 像素 低折射率 高折射率 邻近像素 透镜 制造 高密度集成 图像传感器 成本发明 单片集成 光敏区域 全光结构 最小距离 辐照 变形的 不对称 传感器 高集成 光效率 交替层 滤色镜 最小化 单片 里盘 物镜 移除 噪声 邻近 | ||
【主权项】:
1.一种全光传感器,所述全光传感器整体集成以下元件:具有光传感器的基板;由高折射率材料层构成并位于所述具有光传感器的基板上方的像素微透镜;由高折射率材料层构成并位于所述像素微透镜上方的全光微透镜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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