[发明专利]导电胶滴下系统及导电胶滴下方法有效

专利信息
申请号: 201910221646.5 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN109799633B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 陈基松 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂;鞠骁
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种导电胶滴下系统及导电胶滴下方法。本发明的导电胶滴下系统在滴头上套设感应线圈,并设置与感应线圈电性连接的处理单元,感应线圈位于滴头设有导电胶通道的出口的一端的外侧,处理单元对感应线圈进行通电使其产生磁场,当有导电胶从滴头的导电胶通道的出口滴下时引起磁场变化,导致感应线圈上的电流变化,此时处理单元获取滴头的位置坐标,当该位置坐标为预设的指定坐标时,判定滴头进行正常的滴下操作,否则判定滴头发生滴下异常,以便于进行报警,能够有效地对导电胶滴下的位置进行监控。
搜索关键词: 导电 滴下 系统 方法
【主权项】:
1.一种导电胶滴下系统,其特征在于,包括滴头(10)、套设于滴头(10)上的感应线圈(20)及与感应线圈(20)电性连接的处理单元(30);所述滴头(10)内设有导电胶通道(11),所述导电胶通道(11)的出口(111)设于滴头(10)的一端;所述感应线圈(20)位于该一端的外侧;所述滴头(10)用于经导电胶通道(11)的出口(111)向基板(9)滴下导电胶;所述处理单元(30)对感应线圈(20)进行通电,并在侦测到感应线圈(20)上的电流变化时获取滴头(10)的位置坐标,当该位置坐标为预设的指定坐标时,判定滴头(10)进行正常的滴下操作,否则判定滴头(10)发生滴下异常。
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