[发明专利]液晶高分子之金属化方法在审
申请号: | 201910169946.3 | 申请日: | 2019-03-06 |
公开(公告)号: | CN111663122A | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 黄耀德;吴昌龙;郑景宏 | 申请(专利权)人: | 台湾上村股份有限公司;上村工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;C23C18/36;C23C28/02 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 中国台湾桃*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明系揭露一种液晶高分子之金属化方法,首先,对液晶高分子材料进行硷处理,以清洁与粗化液晶高分子材料之表面。接着,对液晶高分子材料进行活化处理,以利用一活化剂提供金属离子附着于液晶高分子材料之表面,并对此表面进行改质。再来,对液晶高分子材料进行还原处理,以还原金属离子为金属触媒。最后,配合金属触媒之催化活性,以化镀法形成一镍层或一镍合金层,以供一电镀铜层形成于镍层或镍合金层上。本发明不需额外使用物理方式处理液晶高分子材料之表面,而直接以湿制程进行处理,以利用镍提升铜箔之剥离强度。 | ||
搜索关键词: | 液晶 高分子 金属化 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
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