[发明专利]一种亲水性抛光膜及其制备方法在审
申请号: | 201910162782.1 | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN109794863A | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 程丽芳;谭锦锦;邢继军 | 申请(专利权)人: | 北京国瑞升精机科技有限公司 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00;B24D3/28;B24D3/34 |
代理公司: | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人: | 郭冠亚 |
地址: | 102488 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种亲水性抛光膜及其制备方法,包括下述原料:树脂粘结剂、溶剂、偶联剂、磨料微粉、亲水助剂。本发明的有益效果为:本发明所述一种亲水性抛光膜实现了涂层的亲水性,在本发明所述一种亲水性抛光膜上加入水后,水会自动散开,形成一层水膜,能很好地实现湿法研磨中研磨介质应起到的增加研磨力、冷却抛光膜、润湿和去屑的目的,解决了因研磨温度升高使得被研磨端面不稳定的问题,使得被研磨对象的表面比较润滑,研磨的端面更加光洁,而且研磨所产生的磨屑也均匀散布在水膜中,并随着研磨次数增加逐步将磨屑推向水膜的边缘,避免了磨屑阻塞涂层的现象,这不仅增加了研磨力还使得抛光后的端面光洁度比较高,稳定性、一致性比较好。 | ||
搜索关键词: | 研磨 抛光膜 亲水性 磨屑 水膜 制备 磨料 润湿 端面光洁度 树脂粘结剂 一致性比较 次数增加 均匀散布 亲水助剂 湿法研磨 研磨介质 偶联剂 抛光 散开 光洁 溶剂 去屑 微粉 阻塞 冷却 | ||
【主权项】:
1.一种亲水性抛光膜,其特征在于,包括下述重量份的原料:树脂粘结剂1500-1800份、溶剂3000-4000份、偶联剂100-200份、磨料微粉2500-3500份、亲水助剂100-300份。
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