[发明专利]一种亲水性抛光膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种亲水性抛光膜及其制备方法，包括下述原料：树脂粘结剂、溶剂、偶联剂、磨料微粉、亲水助剂。本发明的有益效果为：本发明所述一种亲水性抛光膜实现了涂层的亲水性，在本发明所述一种亲水性抛光膜上加入水后，水会自动散开，形成一层水膜，能很好地实现湿法研磨中研磨介质应起到的增加研磨力、冷却抛光膜、润湿和去屑的目的，解决了因研磨温度升高使得被研磨端面不稳定的问题，使得被研磨对象的表面比较润滑，研磨的端面更加光洁，而且研磨所产生的磨屑也均匀散布在水膜中，并随着研磨次数增加逐步将磨屑推向水膜的边缘，避免了磨屑阻塞涂层的现象，这不仅增加了研磨力还使得抛光后的端面光洁度比较高，稳定性、一致性比较好。

技术领域

本发明涉及研磨抛光技术领域，具体涉及一种亲水性抛光膜及其制备方法。

背景技术

大数据时代，光网络通讯迅速发展，光纤连接器是组成光通讯系统最重要的光无源器件之一。光纤的质量直接影响光通讯的质量，而光纤端面处理质量直接影响光纤激光器的泵浦光耦合效率和激光输出功率，光纤端面的加工不理想，例如抛面有划痕、表面或边缘破碎损伤等等，都将使端面情况复杂化。

现有的抛光膜涂层多是由磨料微粉、粘合剂与有机溶剂混合后涂覆于基材上，但是这些与水不相溶的高分子有机物粘合剂形成涂层后大多是疏水性的，而涂层疏水性的特征决定了涂层在加入水这种研磨介质研磨时水分不能很好地润湿涂层，没有很好地实现湿法研磨中研磨介质应起到的增加打磨力、冷却抛光膜、润滑、去屑的目的。而目前光纤抛光加工过程都是湿法研磨的，为了起到加水润湿铺展的效果，少部分的做法是在抛光膜使用时在研磨介质中加入少量的乙醇、乙二醇、丙二醇等溶剂，降低表面张力、以增加润湿性、起到冷却、润滑、去屑及增加抛光力的作用，但加入的乙醇、乙二醇等溶剂不仅会腐蚀涂层，降低抛光膜的性命，而且乙二醇和丙二醇对操作者的身体也会造成一定的伤害，所以水是一种比较理想的研磨介质，而亲水性抛光膜也顺应大趋势成为人们有待研发的物质。

发明内容

本发明的目的是提供一种具有亲水性的涂层，解决了研磨时涂层疏水的缺陷，使得研磨时水分充分润湿涂层表面，起到冷却、润湿、湿滑、去屑及增加抛光力的作用的亲水性抛光膜及其制备方法。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

本发明通过在涂覆浆料中加入亲水性材料(亲水树脂胶粘剂和亲水助剂)以实现涂层表面的亲水性，这些亲水材料的分子中含有亲水基团，在其加入浆料中完成涂布后会迅速浮于涂层的表面并且亲水基团向外，在研磨抛光时，在涂层上面加入研磨介质水后，上述亲水基团就会迅速与水融合，水分在涂层上面形成一层完全铺展浸润的水膜，水分很好的润湿涂层，从而起到湿法研磨应有的冷却、润湿、润滑、去屑的效果，使得抛光后的光纤端面光洁度高，稳定性、一致性好。

一种亲水性抛光膜，包括下述重量份的原料：树脂粘结剂1500－1800份、溶剂3000－4000份、偶联剂100－200份、磨料微粉2500－3500份、亲水助剂100－300份。

进一步地，所述亲水性抛光膜，包括下述重量份的原料：树脂粘结剂1600份、溶剂3500份、偶联剂150份、磨料微粉3000份、亲水助剂200份。

进一步地，所述树脂粘结剂为：酚醛树脂、脲醛树脂、三聚氰氨树脂、醛酮树脂、氨基树脂或环氧树脂的一种或其混合物。这些包含亲水基团的树脂粘结剂虽然仍属于溶剂性树脂，相对其它聚酯、丙烯酸树脂亲水性好些，但是单独作用该树脂也不能明显显示涂层的亲水性，必须与亲水助剂协同，增加涂层整体的亲水性。

进一步地，所述溶剂为：甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、丁酮或环已酮的一种或其混合物。

进一步地，所述偶联剂为：KH550、KH560、KH570或KBM－403。

进一步地，所述磨料微粉为：中值粒度为1–50μm的金刚石微粉、氧化铝微粉、碳化硅微粉或氧化硅微粉中的一种或其混合物。