[发明专利]一种亲水性抛光膜及其制备方法在审
申请号: | 201910162782.1 | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN109794863A | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 程丽芳;谭锦锦;邢继军 | 申请(专利权)人: | 北京国瑞升精机科技有限公司 |
主分类号: | B24D11/00 | 分类号: | B24D11/00;B24D3/28;B24D3/34 |
代理公司: | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人: | 郭冠亚 |
地址: | 102488 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 抛光膜 亲水性 磨屑 水膜 制备 磨料 润湿 端面光洁度 树脂粘结剂 一致性比较 次数增加 均匀散布 亲水助剂 湿法研磨 研磨介质 偶联剂 抛光 散开 光洁 溶剂 去屑 微粉 阻塞 冷却 | ||
1.一种亲水性抛光膜,其特征在于,包括下述重量份的原料:树脂粘结剂1500-1800份、溶剂3000-4000份、偶联剂100-200份、磨料微粉2500-3500份、亲水助剂100-300份。
2.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,包括下述重量份的原料:树脂粘结剂1600份、溶剂3500份、偶联剂150份、磨料微粉3000份、亲水助剂200份。
3.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,所述树脂粘结剂为:酚醛树脂、脲醛树脂、三聚氰氨树脂、醛酮树脂、氨基树脂或环氧树脂的一种或其混合物。
4.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,所述溶剂为:甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、丁酮或环已酮的一种或其混合物。
5.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,所述偶联剂为:KH550、KH560、KH570或KBM-403。
6.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,所述磨料微粉为:中值粒度为1–50μm的金刚石微粉、氧化铝微粉、碳化硅微粉或氧化硅微粉中的一种或其混合物。
7.根据权利要求1所述一种亲水性抛光膜,其特征在于,所述亲水助剂为:炔二醇类亲水助剂、含氟聚硅氧烷、硅酸聚乙酯或硅酸聚甲酯中的一种或其混合物。
8.权利要求1-7之一所述一种亲水性抛光膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制备固含量为30%的树脂粘结剂:向溶剂中加入树脂粘结剂,在5-8m/s的搅拌速度下,搅拌3-4h搅拌混合均匀,得到溶解后的树脂粘结剂;
(2)向溶剂中依次加入偶联剂、磨料微粉在搅拌速度为5-8m/s的条件下混合搅拌均匀,并静置一段时间,加入步骤(1)所得树脂粘结剂,然后再加入亲水助剂,在8-12m/s的搅拌速度下,混合搅拌20-40min,得涂布浆料;
(3)将涂布浆料均匀地涂覆于基材上形成一层涂料层,烘干并固化,得亲水性抛光膜。
9.根据权利要求8所述一种水性抛光膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述烘干的温度为120℃;所述固化为:在80-100℃的条件下固化48-96h。
10.根据权利要求8所述一种水性抛光膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述亲水性抛光膜的厚度为10-50μm。
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