[发明专利]小型光学级Ge窗口片开发工艺在审
| 申请号： | 201910159313.4 | 申请日： | 2019-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN110389395A | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 胡卫东;杨利涛;王海波 | 申请（专利权）人： | 合肥嘉东光学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/02 | 分类号： | G02B1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了小型光学级Ge窗口片开发工艺，本发明为了解决现有技术的存在的缺点，包括有以下步骤：S1，根据产品尺寸(D3.5*0.6)，选用相应基材尺寸，D25.4*1.0，无严格相关要求，S2，双面磨加工至0.63～0.64；双面磨加工，整盘25件，厚度公差整盘可至0.005以内，S3，双面抛加工至0.59～0.6；抛光尺寸消耗慢，尺寸控制简单，且光洁度60‑40，平行30秒以内，平面度λ/4，S4，把抛好的产品贴蓝膜保护表面，划片机划片至4.5*4.5方片，共25*17＝425件，S5，磨边加工，将方片产品磨边至D3.5(0/‑0.1)，双面倒边B0.1，且磨边加工时间短，上下盘方便，S6，除去产品表面蓝膜，擦拭干净，产品完工。尤其厚度尺寸控制方面，严格保证厚度公差误差在0.01以内，提高了产品的精度，有利于工艺技术的提升。 | ||
| 搜索关键词： | 尺寸控制 厚度公差 磨边加工 小型光学 窗口片 双面磨 方片 蓝膜 光洁度 加工 产品表面 工艺技术 划片机 平面度 抛光 倒边 划片 基材 磨边 擦拭 平行 消耗 开发 保证 | ||
【主权项】：
1.小型光学级Ge窗口片开发工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1，根据产品尺寸(D3.5*0.6)，选用相应基材尺寸，D25.4*1.0，无严格相关要求。S2，双面磨加工至0.63～0.64；双面磨加工，整盘25件，厚度公差整盘可至0.005以内。S3，双面抛加工至0.59～0.6；抛光尺寸消耗慢，尺寸控制简单，且光洁度60‑40，平行30秒以内，平面度λ/4。S4，把抛好的产品贴蓝膜保护表面，划片机划片至4.5*4.5方片，共25*17＝425件。S5，磨边加工，将方片产品磨边至D3.5(0/‑0.1)，双面倒边B0.1；因表面存在蓝膜，对光洁度无影响，且保证倒边，且磨边加工时间短，上下盘方便。S6，除去产品表面蓝膜，擦拭干净，产品完工。
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