[发明专利]存储装置有效
| 申请号： | 201910142958.7 | 申请日： | 2019-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN110931560B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 井野恒洋;上牟田雄一 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L29/51;H10B51/30 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 杨林勳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 实施方式的存储装置具备：第1导电层；第2导电层；及第1层，设置在第1导电层与第2导电层之间，包含氧化铝，氧化铝含有选自由镁(Mg)、硅(Si)、铪(Hf)、钨(W)及钌(Ru)所组成的群中的至少一种第1元素，且氧化铝为铁电体。 | ||
| 搜索关键词： | 存储 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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